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　　當(dāng)今世界及我國(guó)的電子化學(xué)品產(chǎn)品通常執(zhí)行SEMI國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，其關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)包含單向金屬離子，單向陰離子，顆粒數(shù)等，此外根據(jù)不同產(chǎn)品特色會(huì)相應(yīng)增加其他一部分技術(shù)指標(biāo)。

　　電子化學(xué)品的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

　　為了能夠規(guī)范世界超凈高純?cè)噭┑臉?biāo)準(zhǔn)要求，SEMI(SemiconductorEquipmentandMaterialsInternational，國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備和材料協(xié)會(huì))于1975年建立了SEMI化學(xué)試劑標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)，專(zhuān)門(mén)制定、規(guī)范超凈高純?cè)噭┑膰?guó)際統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)—SEMI標(biāo)準(zhǔn)。

　　1978年，德國(guó)的伊默克公司也制定了MOS標(biāo)準(zhǔn)。二種標(biāo)準(zhǔn)對(duì)超凈高純化學(xué)品中金屬雜質(zhì)和(塵埃)微粒的要求各有側(cè)重，各自適用于不同級(jí)別IC的制作的要求。

　　國(guó)際上公認(rèn)的電子化學(xué)品的標(biāo)準(zhǔn)要求大致可分為四類(lèi)：一類(lèi)是以SEMI為基礎(chǔ)的美國(guó)試劑標(biāo)準(zhǔn);一類(lèi)是以德國(guó)E.Merck標(biāo)準(zhǔn)為主的歐洲試劑標(biāo)準(zhǔn);一類(lèi)是以日本關(guān)東化學(xué)(Kanto)公司、和光純藥工業(yè)(Wako)公司的濕電子化學(xué)品為代表的日本試劑標(biāo)準(zhǔn);另一類(lèi)則是以REA公司為代表的俄羅斯試劑標(biāo)準(zhǔn)。ULSI在全球的快速發(fā)展使得這些標(biāo)準(zhǔn)的指標(biāo)有逐步接近的趨勢(shì)，但SEMI標(biāo)準(zhǔn)更早取得世界范圍內(nèi)的普遍認(rèn)可。

　　電子化學(xué)品SEMI標(biāo)準(zhǔn)

　　進(jìn)入21世紀(jì)，國(guó)際SEMI標(biāo)準(zhǔn)化組織又根據(jù)電子化學(xué)品在世界范圍內(nèi)的實(shí)際發(fā)展情況對(duì)原有的分類(lèi)體系進(jìn)行了歸并，按品種進(jìn)行分類(lèi)，每個(gè)品種歸并為一個(gè)指導(dǎo)性的標(biāo)準(zhǔn)要求，其中包括多個(gè)用于不同工藝技術(shù)的等級(jí)。對(duì)應(yīng)集成電路不同技術(shù)水平，所需要電子化學(xué)品的標(biāo)準(zhǔn)要求越高，純度和潔凈度的要求也就越高。如果給電子化學(xué)品分級(jí)別或檔次的話，那么用于≥1.2μm屬于低檔產(chǎn)品(需采用SEMIC1等級(jí)的濕電子化學(xué)品)，0.8～1.2μm屬于中低檔產(chǎn)品(需采用SEMIC7等級(jí)的電子化學(xué)品)，0.2～0.6μm屬于中高檔產(chǎn)品(需采用SEMIC8等級(jí)的電子化學(xué)品)。0.09～0.2μm和<0.09μm則屬于高檔產(chǎn)品(需采用SEMIC12等級(jí)的電子化學(xué)品)，其中≥1.2μm和0.8～1.2μm的硅片主要用于制作分立器件;0.2～0.6μm和0.09～0.2μm的硅片主要用于大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路制造中。

　　可看出，電子化學(xué)品制備的關(guān)鍵在于控制并達(dá)到其所要求的雜質(zhì)含量和顆粒度。為使超凈高純?cè)噭┑馁|(zhì)量達(dá)到要求，需從多個(gè)方面同時(shí)進(jìn)行保障，包含試劑的

　　提純、包裝、供應(yīng)系統(tǒng)及分析方法等。目前，國(guó)際上普遍使用的提純工藝有十余種，它們適用于不同成分、不同要求的超凈高純?cè)噭┑纳a(chǎn)，例如，蒸餾、精餾、連續(xù)精餾、鹽熔精餾、共沸精餾、亞沸騰蒸餾、等溫蒸餾、減壓蒸餾、升華、化學(xué)處理、氣體吸收等。超凈高純?cè)噭┰谶\(yùn)輸過(guò)程中極易受污染，所以超凈高純?cè)噭┑陌b及供應(yīng)方式是電子化學(xué)品使用的重要一環(huán)。特別是顆粒控制的相關(guān)技術(shù)，它貫穿于超凈高純?cè)噭┥a(chǎn)、運(yùn)輸?shù)氖冀K，包括環(huán)境控制、工藝控制、成品包裝控制等各個(gè)環(huán)節(jié)。

　　目前，國(guó)際上制備SEMI-C1到SEMI-C12級(jí)電子化學(xué)品的技術(shù)都已經(jīng)趨于成熟。隨著集成電路制作要求的提高，對(duì)工藝中所需的濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。從技術(shù)趨勢(shì)上看，滿足納米級(jí)集成電路加工需求是超凈高純?cè)噭┙窈蟀l(fā)展方向之一。

　　按照國(guó)標(biāo)試劑(該類(lèi)試劑為我國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定，適用于檢驗(yàn)、鑒定、檢測(cè))的分級(jí)為(要求從高到低排列)：(1)工作基準(zhǔn)試劑(國(guó)標(biāo)無(wú)簡(jiǎn)寫(xiě)標(biāo)記，用漢語(yǔ)注明，綠色標(biāo)簽)：作為基準(zhǔn)物質(zhì)，標(biāo)定標(biāo)準(zhǔn)溶液。(2)優(yōu)級(jí)純(GR，綠色標(biāo)簽)：主成分含量很高、純度很高，適用于精確分析和研究工作，有的可作為基準(zhǔn)物質(zhì)。(3)分析純(AR，紅色標(biāo)簽)：主成分含量很高、純度較高，干擾雜質(zhì)很低，適用于工業(yè)分析及化學(xué)實(shí)驗(yàn)。這個(gè)是一般實(shí)驗(yàn)室用的最多的等級(jí)。(4)化學(xué)純(CP，藍(lán)色標(biāo)簽)：主成分含量高、純度較高，存在干擾雜質(zhì)，適用于化學(xué)實(shí)驗(yàn)和合成制備。(5)實(shí)驗(yàn)試劑(LR，黃色標(biāo)簽)：主成分含量高，純度較差，雜質(zhì)含量不做選擇，只適用于一般化學(xué)實(shí)驗(yàn)和合成制備。其他根據(jù)不同用途的要求，又可分為很多特定的等級(jí)。此類(lèi)試劑質(zhì)量注重的是：在特定方法分析過(guò)程中可能引起分析結(jié)果偏差，對(duì)成分分析或含量分析干擾的雜質(zhì)含量，但對(duì)主含量不做很高要求。